https://dailydigest.aabot.us/zh/tags/2%E7%BA%B3%E7%B1%B3%E5%B7%A5%E8%89%BA/ Recent content in 2纳米工艺 on Deep Research Hugo zh-CN Mon, 04 May 2026 04:00:00 +0000 https://dailydigest.aabot.us/zh/posts/2026-05-04-high-na-euv-lithography/ Mon, 04 May 2026 04:00:00 +0000 https://dailydigest.aabot.us/zh/posts/2026-05-04-high-na-euv-lithography/ ASML的高数值孔径极紫外系统实现了0.55数值孔径——是现有设备分辨率的两倍——首次实现了10纳米以下的关键尺寸制造。这些价值4亿美元的设备代表了有史以来最复杂的制造装备，其反射镜精度接近物理学理论极限。英特尔于2023年12月获得了首台生产系统，标志着真正2纳米制造能力的开端，可为下一代AI处理器带来50%的性能提升。