研究人员在伦敦纳米技术中心的先进光刻洁净室内工作。现代半导体制造对极致精度的要求需要无污染环境,因为即使一粒灰尘也可能破坏数千个晶体管。图片来源:维基共享资源

ASML的0.55数值孔径革命:助力2纳米芯片的4亿美元制造设备

ASML的高数值孔径极紫外系统实现了0.55数值孔径——是现有设备分辨率的两倍——首次实现了10纳米以下的关键尺寸制造。这些价值4亿美元的设备代表了有史以来最复杂的制造装备,其反射镜精度接近物理学理论极限。英特尔于2023年12月获得了首台生产系统,标志着真正2纳米制造能力的开端,可为下一代AI处理器带来50%的性能提升。